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除了光刻机之外,先进半导体工艺还依赖光刻胶,这方面的供应也主要是靠美日等公司,如今国产光刻胶已经在部分领域取得突破,晶瑞电材日前透露他们的光刻胶已经可以用于0.25-0.13um工艺,也就是250-130nm工艺。
晶瑞电材13日在互动平台上表示,公司KrF高端光刻胶部分品种已量产。
子公司瑞红(苏州)电子化学品股份有限公司的KrF光刻胶产品分辨率达到了0.25~0.13μm 的技术要求,已通过部分重要客户测试,KrF高端光刻胶部分品种已量产。
公司子公司瑞红(苏州)电子化学品股份有限公司凭借强大的研发实力和突出的产品优势,取得了下游客户的认证,开拓并维系了一大批国内外优质客户,构建了优质的业务平台并成功进入优秀客户的供应链。
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