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光罩薄膜是极紫外 (EUV) 光刻工艺中的关键部件,指的是在光罩上展开一层薄膜,然后机器在上面绘制要在晶圆上压印的电路,以免光罩受空气中微尘或挥发性气体的污染,减少光掩模的损坏。
目前,光罩薄膜的供应商主要是荷兰ASML、日本三井化学和韩国S&S Tech,韩国的EUV薄膜一直被外部厂商垄断。
作为晶圆代工大厂,三星在2021就宣布自研EUV薄膜,并在今年初自主开发出透光率达88%的EUV薄膜。
但是三星并不满足于此,因为目前市场上也有透光率达到90%或以上的EUV薄膜,一家是ASML,另外一家是S&S Tech。